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深圳市維度科技股份有限公司 光斑分析儀|光功率計(jì)|光譜儀|光電儀器
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深圳市維度科技有限公司(Dimension Technology Co.,Ltd )2007 年于深圳成立,為國(guó)際化光測(cè)量整體解決方案供應(yīng)商,自創(chuàng)立以來(lái)便不斷深耕,積累了深厚的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。 旗下維度光電(Dimension-labs)以突破技術(shù)壁壘、打破國(guó)外壟斷、加速?lài)?guó)產(chǎn)化替代為己任,構(gòu)建并培育網(wǎng)狀光電生態(tài)鏈,維度光電產(chǎn)品覆蓋國(guó)產(chǎn)化全系列光斑、光功率、光譜測(cè)量等儀器、高精度成像系統(tǒng)、高穩(wěn)定光機(jī)械、光學(xué)元件等多領(lǐng)域,服務(wù)全球高校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)及創(chuàng)客團(tuán)體,在行業(yè)內(nèi)影響力深遠(yuǎn),推動(dòng)著光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展潮流,通過(guò)一站式光電產(chǎn)品線上/線下服務(wù)平臺(tái),一站下單,現(xiàn)貨秒發(fā),深度融合互聯(lián)網(wǎng)電子商務(wù)與光電行業(yè),形成創(chuàng)新型數(shù)字化產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈,助力光電領(lǐng)域創(chuàng)新發(fā)展。

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無(wú)干涉光斑分析儀優(yōu)勢(shì) 深圳市維度科技股份供應(yīng) 深圳市維度科技股份供應(yīng)

2025-04-09 04:21:49

維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列提供高性?xún)r(jià)比光束質(zhì)量檢測(cè)解決方案,涵蓋掃描狹縫式、相機(jī)式及 M? 測(cè)試模塊三大產(chǎn)品線: 掃描狹縫式光斑分析儀采用國(guó)內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),支持 190-2700nm 寬光譜范圍,可測(cè)量 2.5μm-10mm 光束直徑,0.1μm 超高分辨率實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié)捕捉。創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制使其無(wú)需外置衰減片即可直接測(cè)量近 10W 高功率激光,適用于激光加工等高能量場(chǎng)景。 相機(jī)式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段,支持 2D/3D 實(shí)時(shí)成像與動(dòng)態(tài)分析,可測(cè)量非高斯光束(如平頂、貝塞爾光束)。獨(dú)特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可拆卸結(jié)構(gòu)支持科研成像功能拓展。 M? 測(cè)試模塊適配全系產(chǎn)品,通過(guò) ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法測(cè)量光束傳播參數(shù)(M? 因子、發(fā)散角、束腰位置等),結(jié)合 BeamHere 軟件實(shí)現(xiàn)一鍵生成報(bào)告、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)滿(mǎn)足光通信、**、工業(yè)等領(lǐng)域的光斑檢測(cè)需求,兼顧實(shí)驗(yàn)室與產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè)場(chǎng)景。

維度光電BeamHere 光斑分析儀系列,提供全場(chǎng)景激光光束質(zhì)量分析解決方案。產(chǎn)品覆蓋 190-2700nm 光譜,包括掃描狹縫式和相機(jī)式技術(shù),實(shí)現(xiàn)亞微米至毫米級(jí)光斑測(cè)量。掃描狹縫式支持 2.5μm-10mm 光斑檢測(cè),具備 0.1μm 分辨率,適用于高功率激光。相機(jī)式提供 400-1700nm 響應(yīng),實(shí)現(xiàn) 2D/3D 成像分析,測(cè)量功率范圍 1μW-1W。M? 因子測(cè)試模塊基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn),評(píng)估光束質(zhì)量。軟件提供自動(dòng)化分析和標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告。技術(shù)創(chuàng)新包括正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪結(jié)構(gòu)和適應(yīng)復(fù)雜光斑的面陣傳感器。產(chǎn)品適用于光束整形檢驗(yàn)、光鑷系統(tǒng)檢測(cè)和準(zhǔn)直監(jiān)測(cè)。結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)優(yōu)化,通過(guò) CE/FCC 認(rèn)證,應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域,助力光束質(zhì)量分析和工藝優(yōu)化。

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