藥物：從藥物發現到藥物生產，D8D為藥品的整個生命周期提供支持，其中包括結構測定、候選材料鑒別、配方定量和非環境穩定性測試。地質學：D8D是地質構造研究的理想之選。借助μXRD，哪怕是對小的包裹體進行定性相分析和結構測定也不在話下。金屬：在常見的金屬樣品檢測技術中。殘余奧氏體、殘余應力和織構檢測不過是其中的一小部分，檢測目的在于確保終產品復合終用戶的需求。薄膜計量：從微米厚度的涂層到納米厚度的外延膜的樣品都受益于用于評估晶體質量、薄膜厚度、成分外延排列和應變松弛的一系列技術。對較大300 mm的樣品進行掃描、安裝和掃描重量不超過5kg的樣品、自動化接口。上海BRUKERXRD衍射儀推薦咨詢

D8DISCOVER特點：微焦源I?S配備了MONTEL光學器件的I?S微焦源可提供小X射線束，非常適合小范圍或小樣品的研究。1.毫米大小的光束：高亮度和很低背景2.綠色環保設計：低功耗、無耗水、使用壽命延長3.MONTEL光學器件可優化光束形狀和發散度4.與布魯克大量組件、光學器件和探測器完全兼容。5.提供各種技術前列的全集成X射線源，用于產生X射線。6.工業級金屬陶瓷密封管，可實現線焦斑或點焦斑。7.專業的TWIST-TUBE（旋轉光管）技術，可快速簡便地切換線焦斑和點焦斑。8.微焦斑X射線源（I?S）可提高極小焦斑面積上的X射線通量，而功耗卻很低。9.TURBOX射線源（TXS）旋轉陽極可為線焦斑、點焦斑和微焦斑等應用提供比較高X射線通量。10.性液態金屬靶METALJET技術，可提供無出其右的X射線光源亮度。11.高效TurboX射線源（TXS-HE）可為點焦斑和線焦斑應用提供比較高X射線通量，適用于D8DISCOVERPlus。12.這些X射線源結合指定使用X射線光學元件，可高效捕獲X射線，并將之轉化為針對您的應用而優化的X射線束。上海XRD衍射儀推薦咨詢利用布魯克樣品臺，能精確地操縱樣品。根據所需自由度和樣品尺寸選合適的卡口安裝式樣品臺和落地式樣品臺。

制劑中微量API的晶型檢測引言藥物制劑生產過程中除需添加各種輔料外，往往還需要經過溶解、研磨、干燥(溫度)、壓片等工藝過程，在此過程中API的晶型有可能發生改變，進而可能影響到藥物的療效。國內外FDA規定多晶型藥物在研制、生產、貯存過程中必須保證其晶型的一致性，固體制劑中使用的晶型物質應該與API晶型一致。因此藥物制劑中的晶型分析是非常重要的。由于輔料的存在對藥物制劑中API的晶型分析增加了干擾，特別是API含量非常少的制劑樣品，檢測更加困難。XRPD是API晶型分析的有效手段之一，配合高性能的先進檢測器，為制劑中微量API的晶型檢測提供了有利工具。

薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同，不過進一步提供了光束調節和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質量、殘余應力、織構分析、厚度測定以及組分與應變分析。在對薄膜和涂層進行分析時，著重對厚度在nm和?m之間的層狀材料進行特性分析（從非晶和多晶涂層到外延生長薄膜）。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進行以下高質量的薄膜分析：掠入射衍射X射線反射法高分辨率X射線衍射倒易空間掃描由于具有出色的適應能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線并將其與測量同不，然后可以在DIFFRAC.EVA中顯示結果。

粉煤灰中晶態礦相及非晶相定量分析引言粉煤灰，是從煤燃燒后的煙氣中收捕下來的細灰，粉煤灰是燃煤電廠排出的主要固體廢物。粉煤灰是我國當前排量較大的工業廢渣之一。大量的粉煤灰不加處理，就會產生揚塵，污染大氣；若排入水系會造成河流淤塞，而其中的有毒化學物質還會對人體和生物造成危害。所以，粉煤灰的再利用一直都是關注的熱點。比如，已用于制水泥及制各種輕質建材等。要合理高效的利用粉煤灰，則需要對其元素和礦相組成有詳細的了解。粉煤灰的礦相主要莫來石、石英以及大量的非晶態。利用XRD測定非晶態通常采用加入特定含量的標準物質以精確的計算非晶相物質的含量。在實驗室中這個方法是可行的，但在實際生產和快速檢測過程中，這個方法就現實。目前一種全新的PONKS（PartialOrNoKnowCrystalStructure）方法*，解決了這一難題，實現了粉煤灰樣品的無標樣定量分析。XRD可研究材料的結構和物理特性，是 重要的材料研究工具之一。上海檢測XRD衍射儀

配備了UMC樣品臺的DISCOVER，優勢在于對大型機械零件殘余應力和織構分析以及殘余奧氏體或高溫合金表征。上海BRUKERXRD衍射儀推薦咨詢

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個納米到幾個微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄，薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規的XRD測試，X射線的穿透深度一般在幾個微米到幾十個微米，這遠遠大于薄膜的厚度，導致薄膜的信號會受到襯底的影響（圖1）。另外，如果衍射簡單較高，那么X射線只能輻射到部分樣品，無法利用整個樣品的體積，衍射信號弱。薄膜掠入射衍射（GID：GrazingIncidenceX-RayDiffraction）很好的解絕了以上問題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角（＜5°）照射到薄膜上，小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度，同時增加衍射顆粒的數目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點說明：GID需要硬件配置；常規GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜，不適合單晶外延膜。上海BRUKERXRD衍射儀推薦咨詢